纳米SiO2的分散表征及其强化混凝低涮氏浊水研究 |
文件大小:0.24MB格式:pdf发布时间:2012-08-10浏览次数:次
【中文关键词】 | 纳米二氧化硅 分散 强化混凝   |
【摘要】 | 采用原子力显微镜、激光粒度仪对超声分散纳米SiO 的粒径分布、微观形状等进行了表征,并使用该纳米分散液对低温、低浊水进行了强化混凝研究。 |
【部分正文预览】 | 采用原子力显微镜、激光粒度仪对超声分散纳米SiO 的粒径分布、微观形状等进行了表征,并使用该纳米分散液对低温、低浊水进行了强化混凝研究。结果表明:纳米SiO 可均匀、 稳定地分散在水溶液中,平均粒径为30 nm,形状呈球形,在pH值为3~12时其表面带负电;将其用于强化混凝处理低温、低浊水时可以显著降低出水浊度,提高所形成矾花的密实程度,同时改善矾花的沉降J}生能。 |
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