近年来，日益严格的废水排放标准和激增的用水成本逐渐制约半导体工业的发展。半导体生产工艺精细复杂，工艺步骤高达300 余步，同时使用多种化学试剂和特殊气体，需要使用大量的纯水用于清洗操作[1-2]。因此，半导体生产过程会产生大量的废水，如酸碱废水、含氟废水、含氨废水和化学机械研磨（CMP）废水[3]。目前，半导体企业一般将废水经过初级物化处理后，排往城市污水处理厂。然而，废水大量排放而非回用，既增加了企业自身的用水成本，又加重污水处理厂生化池的处理负荷[4]。因此，急需探索有效的方法处理半导体废水，以实现工业回用。
半导体废水不同于城市污水和大多数工业废水，它的主要污染物为纳米级至微米级的悬浮物（SS）、有机物（COD）和无机盐。当前研究集中在SS含量较高的CMP 废水的回用处理，采用混凝[5-6]、微滤（MF）[4]和超滤（UF）[7]等对CMP 废水进行预处理，然后通过反渗透（RO）进行深度处理。最近，有研究开始采用混凝、纤维球过滤（FF）、UF 和RO组合处理半导体混合废水[8]。该废水为某半导体工业园区的污水处理厂出水（SS、COD、NH4+-N 和电导率平均值分别为40.0、76.2、10.5 mg/L 和2 615μS/cm），该工艺最终出水水质虽满足回用水的标准，但UF 出水SS、COD、NH4+-N 平均为1.7、25.2、10.5 mg/L，这些污染物可能影响RO 运行的稳定性。因此，需继续探索更先进方法与RO 组合处理半导体混合废水，提高系统稳定性。
膜生物反应器（MBR）是膜过滤工艺与传统活性污泥法的有机结合，它在有效截留废水中SS 时，可高效降解COD 和NH4+-N，且出水水质稳定，几乎不受进水水质波动和污泥沉降性的影响[9-10]。因此，采用MBR 与RO 组合处理半导体混合废水是一种有吸引力和竞争力的选择，但文献尚未见MBR-RO处理半导体废水的报道。本文将采用MBR-RO 组合工艺深度处理半导体混合废水，并探讨该工艺的可行性。 | 
