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XOS-TAs 在电子半导体排放废水监测中的应用

文件大小： 格式： 发布时间：2017-07-28 浏览次数：次
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【中文关键词】   
【摘要】 电子半导体行业近几年发展特别快，随之而来的是生产过程中产生了大量的有毒有害废水，包括酸碱废水、含氟废水、金属废水、有机废水、氰化物废水等，这些废水必须经过处理达标后才能排放。
【部分正文预览】

 

1.背景介绍 
 
        电子半导体行业近几年发展特别快，随之而来的是生产过程中产生了大量的有毒有害废水，包括酸碱废水、含氟废水、金属废水、有机废水、氰化物废水等，这些废水必须经过处理达标后才能排放。目前，电子半导体行业没有针对性的污染物排放标准发布，其执行的标准仍为《污染物综合排放标准》，但是，电子半导体企业对废水排放有严格的内控指标。电子半导体企业 除了监控 COD、氨氮等常规指标外，也非常重视砷、铅等一类重金属污染物的排放量。  
 
        厦门某电子公司于 2015 年采购了一台 XOS 总砷分析仪，用于排口废水总砷监测，测试数 据通过 MODBUS 通讯(仪表自带 RS485 接口)传输至 PLC，实时上传至当地环保局。仪表从企业 正常生产后开始运行，连续运行两个多月无需维护，测量数据稳定，用户反馈较好。 
 
 
2.应用情况 
 
        主要仪器：XOS 总砷分析仪、CYQ 预处理器。 
 
        右图为现场安装图。仪表初次安装不需要校准，为检查仪表的 测量准确性，配制了 0.4 mg/L 的标液，使用仪表自带的标样核查功 能，测量结果为 0.399 mg/L。XOS 总砷分析仪与 CYQ 预处理器联动， 按设定时间定时抽取水样进行分析。CYQ 预处理器的作用是自清洗进样管路和提供连续的流速稳定的水样，确保仪表正常运行，减少 维护量。
 
         为保证测量准确性，仪表每天设置 1 次背景修正，以去除悬浮物附着在膜片上对测量结果的影响。安装后连续测量两个多月，测 量数据稳定在 0.15～0.30 mg/L 之间，满足 0.5mg/L 的排放要求。运行期间无需人为维护，仪器表现出较好的测量稳定性，与实验室测 量结果比对一致性较好，用户较为满意。 
 
 3．总结 
 
（1）XOS 总砷分析仪采用单色波长色散 X 射线荧光法，运行期间不需使用任何化学试剂，不受悬浮物、色度及其他金属离子干扰，测量稳定性较好，维护量极低，可满足电子半导体废水 的在线监测要求。
 
 （2）XOS 总砷分析仪初次安装无需校准，校准周期为 3‐6 个月；与动力窗模块配套使用时， 可大大降低维护量，最大限度降低维护成本。
 
 （3）XOS 重金属已获得环保认证，可用于废水排口总砷、总铅监测。   
 
案例类型： 应用案例-XOS-TAs 在电子半导体排放废水监测中的应用-电子半导体行业-2017.6.9 
 
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