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低模板剂法合成Silicalite - 1 沸石膜及其气体渗透性能研究

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【中文关键词】silicalite  -  1  沸石膜  低模板剂  单组分气体渗透  分离系数  
【摘要】在较低的模板剂浓度下,采用二次生长法在大孔(孔径约4~6μm) α- Al2O3 载体上合成Silicalite - 1 沸石膜,并采用X 射线衍射法、扫描电子显微镜及不同温度下单组分气体渗透实验对所合成的沸石膜进行表征. 结果表明,合成的是典型的Silicalite - 1 沸石膜,无其他杂质形成;制备的沸石膜连续、互生、致密,没有明显的缺陷. 在40 ℃下H2 的渗透速率为4.47×10-7mol/(m2·s·Pa) ,H2/SF6 的理想分离系数44 ,远高于其Knudsen 扩散系数8. 54. 在40~200 ℃之间,H2/ SF6 的理想分离系数曲线呈V 型,H2 的渗透速率几乎不变,N2 的渗透速率随温度升高略下降.
【部分正文预览】

沸石是一种具有规则孔道结构的晶体,而且耐高温、抗化学和生物腐蚀、机械强度高,所以在分离、催化等方面具有很好的发展前景. 对于沸点接近或具有共沸点的混合物的分离,传统的精馏、萃取等技术能耗较大,且操作复杂. 而沸石由于孔道大小与大多数分子的大小接近,可以利用分子筛分的原理分离上述的混合物体系. Yuan 等[1 ]采用无模板剂法合成了Silicalite - 1 沸石膜,并将其应用于分离摩尔比为1∶1 的对二甲苯和邻二甲苯混合物,50 ℃下其分离系数达50 ~ 60. 而日本Mit sui Engineering andShipbuilding Co. Ltd. 公司则将NaA 型沸石膜应用于醇/ 水混合物的分离并实现了工业化生产[2 ] . 另外,将沸石膜应用于膜反应器可以提高受热力学限制的化学反应的转化率,也可以提高连串反应中间产物的选择性

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