“自下而上”法修补含缺陷的钯膜 |
文件大小：0.34MB格式：pdf发布时间：2009-12-14浏览次数：次
| 【中文关键词】 | 复合钯膜 自催化沉积 氢气分离 自下而上修补法 |
| 【摘要】 | 通过在化学镀镀液中添加长链巯基有机物(2 - 巯基苯并噻唑) ,利用巯基与金属钯强烈吸附的性质,使其吸附在钯膜表面,这样钯的自催化沉积仅仅发生在缺陷内部而不发生在钯膜表面,从而对含有缺陷的钯膜进行修补. 对于选择性分别为720 和4 的M1 和M2 两根复合钯膜管,经过多次修补后,选择性S 分别提高到2556 和3 990. 经过SEM( EDS) 和XRD 的分析,修补过后的钯膜表面未见硫化物、碳化物等杂质的存在和表面缺陷的存在. 结果表明这种自下而上修补法是可行的. |
| 【部分正文预览】 | 钯基膜由于对H2 具有较高的选择透过性,在H2 分离以及在涉氢膜反应中的研究一直是个热点[1 ,2 ] . 钯基膜应用的必要条件是要具有低成本、高透量、良好的致密性及稳定性等指标. 钯复合膜是一种利用化学镀、气相沉积、溅射等方法把一层薄的( < 30μm) 钯金属层覆盖在具有低阻力的多孔基体上的具有多层结构的分离膜[3 ] . 钯复合膜的出现较大程度上提供了获得低成本、高H2 透量的可能. |
|
|||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||
|
|||||||||||||||
|
【打印本页】 |
|||||||||||||||
