二氧化氯处理含氰废水的工程实践 |
文件大小：0.05MB格式：pdf发布时间：2012-09-13浏览次数：次
| 【中文关键词】 | 含氰废水 工程实践 氯处理 二氧化氯发生器 处理工艺 引线框架 工艺流程 有限责任公司 半导体元件 生产过程 |
| 【摘要】 | 济南半导体总厂是国内大型半导体元件生产企业,其分公司———济南晶恒有限责任公司主要生产半导体引线框架,在电镀生产过程中产生部分含氰废水,氰浓度(以CN-计)为30～150mg/L,pH值为4,属毒性强、处理难的废水。 |
| 【部分正文预览】 | 济南半导体总厂是国内大型半导体元件生产企业,其分公司———济南晶恒有限责任公司主要生产半导体引线框架,在电镀生产过程中产生部分含氰废水,氰浓度(以CN-计)为30～150mg/L,pH值为4,属毒性强、处理难的废水。选用了以二氧化氯发生器为主要设备的处理工艺。1工艺流程及设备设计水量为4m3/h,日处理水量为80m3/d,采用2个反应罐间歇式交替运行,单罐处理量为8m3,因此每日共处理10罐。每罐运行时间为2h,其中加药1.0h、同时循环反应1.5h、排水0.5h。二氧化氯投加量为[ClO2]/[CN-]=2～4。为满足总量控制的指标,要求CN-的去除率必须达到97%以上,处理出水与厂区其他废 |
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