新型非离子型聚合物对胶体SiO2垢抑制作用的研究

硅是地球上含量最丰富的元素之一，也是水环境 中最常见 的胶体物质[，在 水中硅 的溶解度通 常在 150～180mg·L 之间。高硅含量的原水在运行过程 中常常形成硅垢沉积于设备表面 ，导致设备传热效率降低及系统管路堵塞。硅垢一旦形成便很难去除，常采用具有强腐蚀性 的 NH4F·HF清洗形成的硅垢，如操作不当会造成危险。

对 于硅垢阻垢剂 ，前人进行了一定的研 究，研究的硅垢阻垢剂多为阴离子型聚合物 ，如氧化 淀粉、含氮官能团聚合物 [6-9]及含磷聚合物 。然而 国内此方面 的研究 尚少。同济大学环境科学与工程 学院在原有研究基础上，开发 出一种新型非离子聚合物 TJ—SIOII，含醚键 、肽键 和仲胺基等基 团，研究表明该聚合物对硅垢沉积具有 良好的抑制作用。